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碳化硅高溫氧化爐能夠滿足 SiC 圓片的高溫氧化工藝; 同時(shí)亦可用于常規(guī)的硅圓片的氧化。具有高性能, 占地少和降低成本生產(chǎn)的特點(diǎn); 提供工藝靈活度, 同時(shí)能夠保證有毒氣體的使用...爐氧化硅回轉(zhuǎn)真空烘干設(shè)備產(chǎn)品介紹、批發(fā)價(jià)格及其供應(yīng)商 江蘇健達(dá)干燥工程有限公司的聯(lián)系方式,更多相關(guān)信息盡在食品商務(wù)網(wǎng)。爐氧化硅回轉(zhuǎn)真空烘干設(shè)備項(xiàng)目描述：采購(gòu)優(yōu)質(zhì)的爐氧化硅回轉(zhuǎn)真空烘干設(shè)備、爐氧化硅雙錐真空干燥機(jī)、爐氧化硅雙錐回轉(zhuǎn)真空干燥機(jī)到江蘇健達(dá)干燥工程有限公司 ...

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氧化方法有干氧氧化和水汽氧化（含氫氧合成）兩種,擴(kuò)散爐是用這兩種氧化方法制備氧化層的必備設(shè)備。擴(kuò)散爐是半導(dǎo)體集成電路工藝的基礎(chǔ)設(shè)備,它與半導(dǎo)體工藝互相依存、互相促進(jìn)、共同發(fā)展...